拋光的原理主要反映在2個(gè)方面：微粒研磨原理；物理化學(xué)原理。

　　1.微粒研磨：當(dāng)磨料顆粒由粗磨到細(xì)磨、拋光時(shí)，磨料在石材表面磨削的痕跡由粗到細(xì)再到無(wú)肉眼看到的痕跡，表面便呈現(xiàn)光滑、平整、細(xì)膩，當(dāng)深度達(dá)110微米時(shí)，被加工面出現(xiàn)鏡面光澤，光彩照人，色澤鮮艷。

　　微粒研磨由以下幾道工序組成：

　?。?）粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的紋路粗，磨出的表面較粗糙，主要清除產(chǎn)品在前道工序中留有的鋸片痕跡并將產(chǎn)品的平整度，造型面磨削到位；

　　（2）半細(xì)磨：將粗磨痕跡清除，形成新的較細(xì)的紋路，產(chǎn)品加工面平整、順滑；

　?。?）細(xì)磨：細(xì)磨后的產(chǎn)品花紋、顆粒、顏色已清楚地顯示出來(lái)，表面細(xì)膩、光滑，開(kāi)始有微弱的光澤度；

　　（4）精磨：加工后的產(chǎn)品，無(wú)肉眼察覺(jué)的痕跡。表面越來(lái)越光滑，光澤度約40~50度左右；

　?。?）拋光：表面明亮如鏡，具有一定的鏡面光澤度（85度以上）。

　　2.物理化學(xué)原理：拋光的過(guò)程有2個(gè)，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當(dāng)石材產(chǎn)品發(fā)生物理化學(xué)作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導(dǎo)致拋光磨石濃度增大，從而達(dá)到強(qiáng)化效果，產(chǎn)品光澤度開(kāi)始達(dá)到了理想要求，光澤度達(dá)85度以上或更高。

　　拋光磨石在被加工產(chǎn)品上拋光，待拋光產(chǎn)品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤(rùn)滑作用將會(huì)使拋光達(dá)不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過(guò)高的溫度會(huì)燒壞板面，而且會(huì)使板面出現(xiàn)裂紋。

　　一般而言，產(chǎn)品精磨后，產(chǎn)品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達(dá)不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類(lèi)產(chǎn)品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產(chǎn)品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強(qiáng)化拋光過(guò)程，發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)品在經(jīng)過(guò)“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達(dá)85度以上